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其实在座的大部分公司还是有一些擅长领域的，如果可以把这股技术力量整合在一起，再投入海量资金，即便没有陈涵的微观干涉能力，也可能加快国产光刻机诞生速度。
但以前很难有人能够把大家组织起来。
毕竟很多公司又不是国企，都有自己的利益诉求。
好在陈涵算是一个局外人，就算真把光刻机研发成功了，现在也承诺不会亲自下场和大家竞争，那事情就可以谈了。
“来我们这里工作的科学家全部可以优先享受智慧药的待遇，研发速度会更快，也许今年年底就能拿出一些成果！”陆齐继续说道。
说今年拿出成果，陆齐心中也没底，但这是陈涵要求的，他也只能在大家面前吹吹牛。
陈涵确实很有信心，要知道在这次开会之前，他也对整个光刻机行业进行过了解。
目前国外领先就领先在镜片精度，还有一些特殊材料以及软件工程上。
可以说他具有很大的优势。
国内也能进口到一些工艺很落后的产品，比如28nm光刻机。
比起最先进的光刻机大概落后了3-5代。
从28nm到14nm，再然后就是10nm，7nm，5nm等等。
光刻机的发展都是有迹可循的，摸清了28nm制造，也能够加快速度更新换代慢慢突破到更小的尺度。
陈涵现在最想干的就是拆掉一台光刻机，基本原理科学家都明白，就是一些难点还不能解决。
目前卡住国产光刻机的几个难点其中之一就是精度问题。
国外的公司曾经非常傲慢的宣称，即便把光刻机所有零件都给你们，你们也无法完成光刻机的组装！
精度问题的第一道难关就是光学系统。
光刻机的曝光光学系统，由数十块锅底大的镜片串联组成，其光学零件精度控制在几个纳米以内，陈涵相信它的微观干涉能力，应该可以解决这个难题。
第二道难关是光刻机的激光光源，光刻用准分子激光器光源需要窄线宽、大能量和高脉冲频率，这些参数互相矛盾，研制难度极大。
而且拆开光刻机，零件都会损坏，国内的仿制基本都是从拆仪器开始的，光刻机价格上亿也不是不可以拆，只不过现在拆了内部就被破坏。
纳米层面一点点改变，后续研究就无法进行下去了。
目前能够攻克这个系统的只有脚盆国的一家科技公司，而其他公司都被艾斯麦尔公司收购了。
激光光源再复杂，其基本构造和材料如果通过微观观察，陈涵也能够分析出具体是怎么回事，应该也可以复制。
艾斯麦尔公司的防拆手段对陈涵没有用！
他可以微观干涉记下构造，再拆开以后制造零件组装。
还剩下最后一个难点，全世界只有艾斯麦尔公司掌握，那就是光刻机工件台。
这个工作台只有2-3平方厘米。
但为了将芯片设计图刻在芯片上，需要控制整个工作台在高速运动的情况下达到2nm的运动精度。
这个难点陈涵也没有把握。
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