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时间转眼而逝，初冬的京大已经感觉到寒冷，尤其是在一场小雨过后，寒意像针一样无孔不入。
今年的第一场雪，很快就要来了。
实验室外寒风习习，实验室内却温暖如春，华科院的八名研究生和曾泉此时内心更是一片火热。
他们早早等在实验室，看到陆隐进来急急迎了上去。
“陆工！”
“陆工！”
“陆工！”
“是今天吗！”
陆隐没说话，将身上的大衣脱下挂在架子上，神情凝重地扫向面前几人。
前几天他就说过，等数据计算无误，一切都准备齐全后，就可以开始对1nm光刻机雏形正式进行第一次试验。
“都跟我进来一下。”
陆隐走进办公室，打开了电脑，指着电脑上的草图和数据，对几人说道。
“不出意外，今天正式开始第一次实验，但在试验开始之前，这些数据我需要你们再继续验算一遍，数据无误，我今天就会申请关于材料，材料一到，即可开始着手准备。”
“是！明白！”
几人心中一阵亢奋，齐齐大喊。
随即几人快速将电脑上的草图和数据一份份拷贝下来，快速回到了自己的工位上，做好试验研发前的最后一项准备工作。
几人走后，陆隐却坐在电脑前出了神。
今日对1nm光刻机雏形进行第一次实验研发，是早就定好的事情，也是必要经过，但他心里总有些不安。
这次的实验过程，实在太过顺利了些，他总觉得缺少些什么，心里不踏实。
难道是过程太快？
陆隐闭目躺在椅子上，意识沉入脑海，在脑中一遍遍回想起关于1nm光刻机的各种程序和步骤。
光刻机的演进过程十分复杂，但它的核心只围绕着三个定律。
一是摩尔定律。
简单来说，整个世界都是由“0”和“1”组成，而在芯片里，表示“0”和“1”的基本元件就是晶体管，晶体管越多，芯片的运算速度就越快。
摩尔定律的意思就是说，同样大小的芯片，每隔两年里面的晶体管数量就会增加一倍，同理，性能也会增加一倍。
这就要求芯片制造得越来越精细，如今市面上的芯片已经进化到，要求两个器件之间，只能有几个纳米的距离了。
通常来说，造小的东西，核心思想就是放大，举个例子，像用机械的放大，就像杠杆这类的机械机构原理，但在纳米级精度上，机械的方法却又不够用了，所以就启用了“光”。
那么光又怎么放大？
其实很简单，投影！
像是我们日常生活中用到的投影仪，光刻机的核心就是造一个放大的，透光的模子，把想要的形状印在模子上，光通过模子照射在硅片上，这样就能制造出小尺寸的东西。
但因为技术瓶颈，这一项技术十年前就已经不用了。
目前世界上最先进的技术是“EUV”，这是郁金香国的ASmL公司用二十年研发出来的。
说到这，就会引出第二个定律，瑞利判据。
总的来说，光刻机的研发是个极其复杂且精细的过程，哪怕一点点纳米级错误，哪怕是一粒灰尘，都会让整个研发毁于一旦！
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